Окисление кремния

Благодаря своим уникальным электрофизическим свойствам двуокись кремния находит широкое применение на различных стадиях изготовления СБИС. Слои SiO2используются как:
• маска для диффузии легирующих примесей;
• для пассивации поверхности полупроводников;
• для изоляции отдельных элементов СБИС друг от друга;
• в качестве подзатворного диэлектрика;
• в качестве одного из многослойных диэлектриков в производстве МНОП элементов памяти;
• в качестве изоляции в схемах с многослойной металлизацией;
• как составная часть шаблона для рентгеновской литографии.