Автор работы: Пользователь скрыл имя, 26 Мая 2015 в 13:17, курсовая работа
Цель работы:
определить уровень развития техники в области обрабатывающей промышленности.
Задачи патентного исследования:
определить способы нанесения алмазных пленок ;
определить способы получения алмазных пленок;
изучить отрасль, в которой наиболее часто применяются алмазные пленки;
Введение……………………………………………………………………
5
Перечень сокращений, условных обозначений, символов, единиц, терминов…………………………………………….……………………
6
Общие данные об объекте исследований…………..…………………..
7
Аналитическая часть……………………………..………………………
9
Найденная патентная информация………………………………….
10
Найденная научно-техническая информация ……………………...
12
Заключение………………………………………….….………….…………
Заключение
Найдены и отобраны патенты, которые могут считаться близкими к заявленной теме поиска. Полный перечень найденных патентов приведен в таблице В.6.1 - Патентная документация.
Из анализа найденных патентов и источников научно-технической информации видно, что одним из методов нанесения алмазных пленок на режущие инструменты является химический газофазный метод (CVD-метод). Процесс химического газофазного осаждения, как это вытекает из его названия, включает химическую реакцию в газовой фазе, происходящую над поверхностью твердой подложки, в результате которой происходит осаждение конечного продукта реакции на поверхность данной подложки. Все CVD-методы для создания алмазных пленок требуют способа активации углеродсодержащих молекул исходного продукта реакции. В число этих методов входят термический (например, с горячей проволокой) либо плазменный метод (плазма тлеющего разряда, высокочастотная плазма, СВЧ-плазма) или применение плазменного горения (оксиацетилен, либо плазменные горелки). Данный метод широко используется в обрабатывающей промышленности, так как используется для режущих и сверлильных инструментов, например: буровых головок, разверток, зенковок с синтетическими CVD-алмазными покрытиями, которые используются для механической обработки цветных металлов, пластмасс и композиционных материалов. Инструменты с CVD-алмазным покрытием имеют более длительный срок службы, обеспечивают большую скорость резания и лучшую чистовую обработку.
В ходе проведенного детального изучения осаждения алмазных пленок химическим газофазным методом (CVD-метод) на твердосплавный режущий инструмент были решены следующие задачи:
ПРИЛОЖЕНИЕ А
(обязательное)
ФОРМА ЗАДАНИЯ НА ПРОВЕДЕНИЕ ПАТЕНТНЫХ ИССЛЕДОВАНИЙ
______________________________
должность, личная подпись и расшифровка подписи ответственного руководителя работы
« »____________ 20__ г.
на проведение патентных исследований
Наименование работы (темы) Осаждение алмазных пленок химическим газофазным методом (CVD-метод) на твердосплавный режущий инструмент
Шифр работы (темы) ПНИПУ ЭТФ ИН-12б
Этап работы № 1, в рамках лабораторной работы, сроки его выполнения 12.09.2014-30.12.2014
Цель патентного исследования:
Задачи патентного исследования:
1.Определение способов получения алмазных пленок;
2.Определение способов нанесения алмазных пленок;
3.Изучение отраслей, в которых наиболее часто применяются алмазные пленки;
4.Исследование улучшения свойств инструментов с нанесенным алмазным покрытием;
5.Изучение химического газофазного метода (CVD-метод).
Виды патентных исследований |
Подразделения-исполнители (соисполнители) |
Ответственные исполнители (Ф.И.О.) |
Сроки выполнения патентных исследований. Начало. Окончание |
Отчетные документы |
1.Способ получение алмазных пленок |
Килина
Е.Л., |
Килина
Е.Л., |
12.09.2014-30.12.2014 |
Отчет о патентных исследованиях |
2.Способ нанесения алмазных пленок |
Килина
Е.Л., |
Килина
Е.Л., |
12.09.2014-30.12.2014 |
Отчет о патентных исследованиях |
3.Отрасль, где наиболее часто применяются алмазные пленки |
Килина
Е.Л., |
Килина
Е.Л., |
12.09.2014-30.12.2014 |
Отчет о патентных исследованиях |
4.Исследование улучшения свойств инструментов с нанесенным алмазным покрытием |
Килина
Е.Л., |
Килина
Е.Л., |
12.09.2014-30.12.2014 |
Отчет о патентных исследованиях |
5. Изучение химического газофазного метода (CVD-метод) |
Килина
Е.Л., |
Килина
Е.Л., |
12.09.2014-30.12.2014 |
Отчет о патентных исследованиях |
Руководитель ___________ _____
патентного подразделения личная подпись расшифровка дата
подписи
Руководитель
подразделения ___________ ____
исполнителя работы личная подпись расшифровка дата
(руководители подразделений- подписи
соисполнителей)
ПРИЛОЖЕНИЕ Б
(обязательное)
Регламент поиска № 1
______________________
дата составления регламента
Наименование работы (темы) Осаждение алмазных пленок химическим газофазным методом (CVD-метод) на твердосплавный режущий инструмент Шифр работы (темы) ПНИПУ ЭТФ ИН-12б
Номер и дата утверждения задания №1 12.09.2014
Цель поиска информации (в зависимости от задач патентных исследований, указанных в задании): создание перечня документов, которые описывают способы и технологии нанесения алмазных пленок с целью определения тенденций развития техники.
Начало поиска 12.09.2014 Окончание поиска 30.12.2014
Предмет поиска (объект исследования, его составные части, товар) |
Страна поиска |
Источники информации, по которым будет проводиться поиск |
Ретроспективность |
Наименование информационной базы (фонда) | |||
патентные |
НТИ* |
||||||
Наименование |
Классификационные рубрики: МПК (МКИ)*, МКПО*, НКИ* и другие |
Наименование |
Рубрики УДК* и другие | ||||
1 |
2 |
3 |
4 |
5 |
6 |
7 |
8 |
Осаждение алмазных пленок химическим газофазным методом (CVD-метод) на твердосплавный режущий инструмент |
Россия |
www.findpatent.ru http://ru-patent.info/ http://www.fips.ru |
МПК C23C16/44, C23C16/30, B23B27/14, C30B33/02, C30B29/04, C01B31/06, C23C16/26, H01J9/02, H01J1/30, H01L21/205 |
www.gpntb.ru www.elibrary.ru www.springer.com |
УДК 679.8, 536.241, 628.345, 541.1 |
23 |
Федеральный |
США |
www.uspto.gov |
United States Patent and Trademark Office | |||||
ЕС |
www.espacenet.com |
European Patent Office | |||||
Китай |
http://www.ipdl.inpit.go.jp/ homepg.ipdl |
The Industrial Property Digital Library | |||||
(обязательное)
ФОРМА ОТЧЕТА О ПОИСКЕ
В.1 Поиск проведен в соответствии с заданием ____Трусова В.А.____________
должность и фамилия ответственного руководителя работы
№ __1___от _12.09.2014_ и Регламентом поиска № ___1_____ от _12.09.2014__
В.2 Этап работы __в рамках лабораторной работы _________________________
при необходимости
В.3 Начало поиска _____12.09.2014____ Окончание поиска ___30.12.2014____
В.4 Сведения о выполнении регламента поиска (указывают степень выполнения регламента поиска, отступления от требований регламента, причины этих отступлений)
Поиск информации завершен и соответствует требованиям регламента.
В.5 Предложения по дальнейшему проведению поиска и патентных исследований
Для более детального изучения осаждения алмазных пленок химическим газофазным методом (CVD-метод) на твердосплавный режущий инструмент предлагаем следующие темы для дальнейшего поиска:
В.6 Материалы, отобранные для последующего анализа
Классы МПК: H01J9/02, H01J1/30, C23C16/26, H01L21/205, C23C16/44, C23C16/30, B23B27/14, C30B33/02, C30B29/04, C01B31/06
Таблица В.6.1 - Патентная документация
Предмет поиска (объект исследования, его составные части) |
№ п./п |
Страна выдачи, вид и номер охранного документа. Классификационный индекс* |
Заявитель (патентообладатель), страна. Номер заявки, дата приоритета, конвенционный приоритет, дата публикации* |
Название изобретения (полной модели, образца) | ||
1 |
2 |
3 |
4 |
5 | ||
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ |
1 |
RU 2105379 H01L21/205 C23C16/26 H05H1/30 |
Закрытое акционерное общество "Техно-ТМ"(RU) 94034306/25 29.09.1994 29.09.1994 20.02.1998 |
Способ получения сплошной пленки с алмазоподобной структурой и устройство для его осуществления | ||
2 |
RU 2158037 H01J9/02 H01J1/30 |
ООО "Высокие технологии" (RU) 96113270/09 16.07.1996 16.07.1996 20.10.2000
|
Способ получения алмазных пленок методом газофазного синтеза | |||
3 |
RU 2158036 H01J9/02 H01J1/30 |
ООО "Высокие технологии" (RU) 96103349/09 29.02.1996 29.02.1996 20.10.2000 |
Способ получения алмазных пленок методом газофазного синтеза | |||
4 |
RU 2054056 C30B25/02 C30B29/04 |
Дженерал Электрик Компани (US) 5001007/26 01.07.1991 01.07.1991 10.02.1996 |
Способ получения изотопически чистых алмазных пленок | |||
5 |
RU 2023325 H01L21/268 |
Инженерный центр "Плазмотег" АН Беларуси (BY) 5006253/25 12.07.1991 12.07.1991 15.11.1994 |
Способ выращивания алмазных пленок | |||
6 |
RU 2045474 C01B31/06 |
Черентаев Петр Семенович (RU) 5042428/26 19.05.1992 19.05.1992 10.10.1995 |
Способ получения алмазов | |||
7 |
RU 2118997 C30B29/04 C01B31/06 B01J3/06 |
Российский федеральный ядерный центр - Всероссийский научно- исследовательский институт экспериментальной физики(RU) 97101049/25 24.01.1997 24.01.1997 20.09.1998 |
Способ получения поликристаллических алмазных слоев | |||
8 |
RU 2497981 C30B33/04 C30B33/02 C30B29/04 A44C17/00 |
ЭЛЕМЕНТ СИКС ЛИМИТЕД (GB) 2011151856/05 25.06.2010 25.06.2010 10.11.2013 |
Способ изготовления фантазийно окрашенного оранжевого монокристаллического cvd-алмаза и полученный продукт | |||
Способ нанесения |
9 |
RU 2130823 B23B27/14 C23C16/30 C23C16/44 |
Сандвик АБ (SE) 94044394/02 21.12.1994 21.12.1994 27.05.1999 |
Режущий инструмент и способ нанесения покрытия на него | ||
10 |
RU 2497978 C23C24/08 |
Федеральное государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Ижевская государственная сельскохозяйственная академия" (RU) 2011130871/02 22.07.2011 22.07.2011 27.01.2013 |
Способ формирования покрытия и установка для его осуществления | |||
11 |
RU 2529141 B22F7/04 |
Федеральное
государственное бюджетное образовательное
учреждение высшего профессионального
образования "Московский государственный
технологический университет "СТАНКИН"
(RU) 2013117577/02 17.04.2013 17.04.2013 27.09.2014 |
Способ получения сверхтвердого композиционного материала на основе кубического нитрида бора или синтетического алмаза для режущего инструмента | |||
12 |
RU 2389833 C30B25/00 |
КАРНЕГИ ИНСТИТЬЮШН ОФ ВАШИНГТОН (US) 2007113175/15 Конвенционный приоритет: US 60/608,516 09.09.2005 27.10.2008
|
Сверхпрочные монокристаллы cvd-алмаза и их трехмерный рост | |||
Diamond film |
13 |
US 5,852,341 C23C16/26 C23C16/27 H01J 001/14 H01J 001/16 |
Crystallume (Santa Clara, CA) 08/743,289 November 14,1994 December 22,1998 |
Diamond film with sharp field emission turn-on | ||
14 |
US 6,204,595 H01J1/304 H01J1/30 H01J 021/10 |
The Regents of the University of California (Oakland, CA) 08/500,282 July 10, 1995 March 20, 2001 |
Amorphous-diamond electron emitter | |||
15 |
US 5,571,616 C23C16/277 C23C16/279 C23C16/56 C01B 031/06 |
Crystallume (Santa Clara, CA) 08/442,259 May 16, 1995 November 5, 1996 |
Ultrasmooth adherent diamond film coated article and method for making same | |||
16 |
US 5,571,615 C23C16/26 C23C16/27 B32B 015/04 C01B 031/06 |
Xrystallume (Santa Clara, CA) 08/442,258 May 16, 1995 November 5, 1996 |
Ultrasmooth adherent diamond film coated article and method for making same | |||
17 |
US 5,273,788 B05D1/20 B05D 003/06 B01J 003/06 |
The University of Utah (Salt Lake City, UT) 07/916,384 July 20, 1992 December 28, 1993 |
Preparation of diamond and diamond-like thin films | |||
18 |
US 6,447,843 C23C16/00 C23C16/26 C23C16/01 |
Saint-Gobain Industrial Ceramics, Inc. (Worcester, MA) 08/826,209 March 27, 1997 September 10, 2002 |
Synthetic diamond wear component and method | |||
Method for producing diamond film |
19 |
US 5,204,210 C23C8/08 C23C8/02 C23C8/22 G03F7/004 G03C 011/00 B05D 003/02 |
Xerox Corporation (Stamford, CT) 07/624,031 December 7, 1990 April 20, 1993 |
Method for the direct patterning of diamond films | ||
20 |
US 5,270,077 C23C16/01 C23C16/00 C23C16/458 C23C16/27 C23C16/26 C23C 016/00 |
General Electric Company (Worthington, OH) 07/806,389 December 13, 1991 December 14, 1993 |
Method for producing flat CVD diamond film | |||
Chemical vapor deposition |
21 |
US 8,597,732 C23C16/06 |
National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology 12/531,260 March 14, 2008 December 3, 2013 |
Thin film depositing method | ||
22 |
US8,551,890 H01L21/31 |
Texas Instruments Incorporated 13/346,603 January 9,2012 October 8,2013 |
Showerhead for cvd depositions | |||
Process for depositing diamond |
23 |
US 5,749,966 C23C16/50 C23C16/511 H01J37/32 C30B 025/02 |
Modular Process Technology Corp. (San Jose, CA) 08/324,074 October 14, 1994 May 12, 1998 |
Process for depositing diamond and refractory materials | ||
24 |
US 5,505,158 C30B25/02 C30B 025/14 |
The United States of America as represented by the Secretary of the Navy (Washington, DC) 08/334,088 November 4, 1994 April 9, 1996
|
Apparatus and method for achieving growth-etch deposition of diamond using a chopped oxygen-acetylene flame | |||
25 |
US 5,154,945 C23C16/27 C23C16/48 C23C16/26 B05D 003/06 B01J 003/06 |
Iowa Laser Technology, Inc. (Cedar Falls, IA) 07/772,609 October 8, 1991 October 13, 1992 |
Methods using lasers to produce deposition of diamond thin films on substrates | |||
Diamond film |
26 |
JP 2014-152394 C23C 28/00 |
HIROSHIMA PREFECTURE (JP) 2013-026266 14.02.2013 25.08.2014 |
Diamond film body, diamond fil | ||
27 |
US5260106 A C23C16/27 C23C28/00 C23C16/02 |
Fujitsu Limited (JP) 07/790,115 November 12,1991 November 9,1993 |
Method for forming diamond films by plasma jet CVD | |||
28 |
US 20060228479 A1
|
Chevron U.S.A. Inc. 1/386,648 October 12,2006 March 23,2006 |
Bias enhanced nucleation of diamond films in a chemical vapor deposition process | |||
29 |
WO2014196095 C30B29/16 C23C16/40 C30B25/14 C30B29/22 C30B7/14 H01L21/20 H01L21/368 |
ROCA K.K. [JP/JP]; 1-36, Goryoohara, Nishikyo-ku, Kyoto-shi, Kyoto 6158245 (JP) JP2013/080451 11.11.2013 11.12.2014 |
Method for producing oxide crystal thin film | |||
30 |
US 08784766 |
Uppireddi Kishore 18.01.2010 22.07.2014
|
Diamond synthesis employing nanoparticle seeds | |||
31 |
CN 102719804 |
Langzhou University 02.07.2012 10.10.2012 |
Growing device of gas inner circulation type hot wire chemical vapor deposition (CVD) diamond films | |||
32 |
WO2014157560 C23C 14/06 B21D 37/01 B21D 37/20 C23C 14/02 |
HITACHI METALS, LTD. [JP/JP]; 2-1, Shibaura 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058614 (JP) JP2014/058982 27.03.2014 02.10.2014 |
Coated tool and method for producing same | |||
33 |
JP 2011105585
|
TOMEI DIAMOND CO LTD 2010235651 20.10.2010 02.06.2011 |
Ubstrate for depositing cvd diamond and method for forming deposition surface |
Таблица В.6.2 - Научно-техническая, конъюнктурная, нормативная документация и материалы государственной регистрации (отчеты о научно-исследовательских работах)
Наименование источника информации с указанием страницы |
Автор, фирма (держатель) технической документации |
Год, место и орган издания (утверждения, депонирования источника) |
1.Тип: Курсовая. Алмазные пленки |
Николаев С.В. |
1 сентября 2005 |
2.Тип: Сборник статей. Алмаз в электронной технике |
В.Б. Квасков |
Москва, Энергоатомиздат. 1990 г. 245стр. |
3.Тип: CVD-метод. Химическое парофазное осаждение |
Сыркин В.Г. |
Издательство: Наука Год:2000 |
4. Тип: Статья. CVD-алмазы. Применение в электронике |
В.Ральченко, В.Конов |
Выпуск #4/2007 |
5.Тип: Книга. Алмазные теплоотводы в конструкции полупроводниковых приборов. Обзоры по электронной технике |
Моряков О.С |
М., 1982, вып.1 (857) |
6. Тип. Научная работа. Выращивание плазменными методами пленок
алмаза и родственных материалов |
Белянин, Алексей Федорович |
Москва 2002 |
7.Двухслойные теплоотводящие диэлектрические подложки алмаз-нитрид алюминия. – Микроэлектроника |
Ральченко В.Г., Савельев А.В. |
2006, т.35, №4, с.243. |
8. УФ-детекторы на основе поликристаллических алмазных пленок для эксимерных лазеров.– Квантовая электроника |
Ральченко В.Г. |
2006, т.36, №6, с.487. |
9. Пленки алмаза и алмазоподобных материалов: формирование, строение и применение в электронике.—Высокие технологии в промышленности России |
Белянин А.Ф., Самойлович М.И |
М.: ЦНИТИ "Техномаш", 2003, с.19. |
10. Измерение теплопроводности поликристаллического CVD алмаза методом импульсных динамических решеток – Квантовая электроника |
Ивакин Е.В |
2002, т.32, с. 367 |
11. Алмазные пленки и пленки родственных материалов |
Большаков А.П., Конов В.И., Углов С.В |
Харьков. Украина. 2001. С.91-93 |
12. Синтез безводородных пленок алмазоподобного углерода |
Аксенов И.И., Стрельницкий В.Е |
Украина. 2001. С.96-105. |
13. Химическая энциклопедия |
М.: Советская энциклопедия. 1988. Т. 1 | |
14. Промышленные нанотехнологии.Методы и оборудования Для нанесения износотойких покрытий. |
Д.Локтев, Е.Ямашкин |
Наноиндустрия, 2007 |
15. Применение CVD-метода |
Козырева Лариса Викторовна |
Москва, 2007 |
16. CVD-метод. Химическое парофазное осаждение |
Сыркин В.Г |
Москва: Наука, 2000 |
17.Химическое осаждение из |
В. Киреев, А. Столяров |
Москва: Техносфера, 2006 |
18. Термодинамические аспекты |
Джонсон Д |
Москва: Мир, 1985 |
19. Формирование слоев к |
Телеш Е.В. , Ильин А.В. |
Нарочь. Беларусь.2004 |
20. Работоспособность режущего инструмента с износостойкими покрытиями |
Верещака А.С. |
М.: Машиностроение, 1993. – 336 с. |
21. Нанесение покрытий на |
Внуков Ю.Н. |
Киев: Техника, 1992. – 196 с. |
22. Методы получения пленок и покрытий из высокотемпературных сверхпроводнков, |
Головашкин А.И. |
Журн. Всес.о-ва им. Д.И.Менделеева, 1989, т.34, №4, с.481-491. |
23. Получение тонких пленок методом CVD, Сверхпроводимость: исследования и разработки |
Горбенко О.Ю., Фуфлыгин В.Н. |
1995, т.5-6, с.38-81 |
24. Principles of Chemical Vapor Deposition |
Michael K. Zuraw |
Kluwer Academic Pulisher, 2003 |
25. An Integrated Engineering Desing |
Dr. Xiu-Tian Yan |
University of Strathclyde |
26. For Advanved Materials |
Department of Desing, London, 2010 | |
27. Chemical Vapour Deposition: Precursors, Processes and Applications |
Anthony C. Jones, Michael L. Hitchman |
Royal Society of Chemistry, 2009 |
28. Handbook of Chemical Vapor Deposition: Principles, Technology and Applications |
William Andrew |
USA by Noyes Pulications, New Jersey, 1992 |
29. Chemical Vapor Deposition: Proceedings of the Fourteenth International Conference and EUROCVD-11 |
Mark Donald Allendorf, Claude Bernard |
The Electrochemical Society, 1997 |
30. Chemical Vapor Deposition: Principles and Applications |
Michael L. Hitchman, Klavs F. Jensen |
Academic Press, 1993 |
31. CVD of Nonmetals |
William S. Rees, Jr. |
John Wiley & Sons, 2008 |
32. CVD of Compound semiconductors: precursor synthesis, development and applications. |
Jones A.C., O’Brien P. |
New York, VCH, 1997. |
33. Handbook of Chemical Vapor Deposition: Principles, Technology and Applications, 2nd Ed |
Pierson, H. O. |
New York, USA, 2000 |
34. CVD of Nonmetals |
William S. Rees, Jr. |
John Wiley & Sons, 2008 |
35. Proceedings of the Symposium on Fundamental Gas-Phase and Surface Chemistry of Vapor-Phase Materials Synthesis |
Mark Donald Allendorf |
The Electrochemical Society,1999 |
36. Handbook of Deposition Technologies for Films and Coatings: Science, Applications and Technology |
Peter M. Martin |
William Andrew, 2009 |
37. The Chemistry of Metal CVD |
Toivo T. Kodas, Mark J. Hampden-Smith |
John Wiley & Sons, 2008 |
38. Chemical Vapor Deposition |
Jong-Hee Park, T. S. Sudarshan |
ASM International, 2001 |
39. Phenolic Resins: A Century of Progress: A Century of Progress |
Louis Pilato |
Springer, 2010 |
40. Chemical Vapor Deposition of Refractory Metals and Ceramics |
Theodore M. Besmann, Bernard M. Gallois |
Materials Research Society, 11 апр. 1990 |
41. Low-Pressure Synthetic Diamond: Manufacturing and Applications. |
Dischler B., Wild C |
Springer, Berlin, 1998. |
42. Electronic devices from diamond-like carbon. – Semicond. |
Miln W.I. |
Sci. Technol., 2003, v.18, p.S81–S85 |
43. Applications of diamond substrates for advanced high density packaging. |
Eden R.C. |
Mater. 1993, v.2, p.1051 |
44. Laser-induced dynamic transient application for thermal conductivity measurements of CVD diamond |
Ivakin E.V., Ralchenko V.G. |
Proceedings of SPIE, 2003, v.5121, p.253. |
45. Thermal conductivity of CVD diamond at elevated temperatures |
Sukhadolau A.V., Ivakin E.V |
Diamond and Related Materials, 2005, v.14, p.589. |
46. Processing of diamond. – Handbook of Industrial Diamonds and Diamond Films. |
Ralchenko V.G., Pimenov S.M. |
Marcel Dekker, New York, 1997, p. 983. |
47. Diamond and Related Materials |
Nebel C.E., Ertl F. |
2002, v.11, p. 351. |
48. Electronic devices on CVD diamond. – Low-Pressure Synthetic Diamond: manufacturing and Applications |
Kohn E., Ebert W. |
Springer — Berlin, 1998, p.331. |
49. Combustion Synthesis: Is It Most Flexible of the Diamond Synthesis Process |
Ravi K.V |
Mater. 1995. V. 4. P. 243-249 |