Расчет зарядной емкости P-N-перехода и характеристик полевого транзистора

Автор работы: Пользователь скрыл имя, 15 Декабря 2011 в 14:53, курсовая работа

Описание работы

Основным материалом, для создания полупроводникового прибора, являются различные полупроводники, т.е. это кристаллические или аморфные вещества. Для них характерна сильная зависимость сопротивления от температуры, напряженности электрического и магнитного полей, освещенности, механических напряжений, воздействие электромагнитных излучений и т.п.
В данной курсовой работе рассматривается структура и принцип действия полевого транзистора, его основные характеристики, а также расчет основных параметров.

Содержание работы

ВВЕДЕНИЕ
РАЗДЕЛ 1. ТЕОРЕТИЧЕСКАЯ ЧАСТЬ
Ширина p-n перехода. Зарядная емкость p-n перехода
Принцип действия полевого транзистора
Основные характеристики
РАЗДЕЛ 2. РАСЧЕТНАЯ ЧАСТЬ
Расчет зависимости зарядной емкости кремниевого p-n перехода от приложенного напряжения
Расчет крутизны выходной ВАХ
ВЫВОДЫ
СПИСОК ИСПОЛЬЗОВАНОЙ ЛИТЕРАТУРЫ

Файлы: 1 файл

курмак коваленко 3 фбе.docx

— 371.13 Кб (Скачать файл)

  Усилительные  свойства полевого транзистора определяются глубиной модуляции сопротивления  между стоком и истоком. Это сопротивление называется сопротивлением канала RK. Для получения заметной модуляции ширина кристалла и ширина ОПЗ должны быть соизмеримы. Формула для ОПЗ несимметричного р-n перехода можно записать виде:

  

  

 и 

   

(1.2.)

где Up-n — напряжение на р-n переходе. Так как ширина ОПЗ растет с увеличением , то для получения больших значений d, а следовательно, и больших изменений d при изменении напряжения, нужно брать материал с большим удельным сопротивлением.

  Как видно из рис. 1.2,а, ширина ОПЗ вблизи стока больше, чем вблизи истока, потому что к различным участкам р-n перехода приложено неодинаковое напряжение. Если считать потенциал истока равным нулю, то потенциал стока равен Uс. Это напряжение распределяется вдоль кристалла полупроводника, создавая падения напряжения U1, U2 и т. д. на различных участках кристалла. К нижней части р-n перехода приложено напряжение к верхней Так как то и ОПЗ вверху больше. Участки стержня, расположенные между р-n переходом и истоком и р-n переходом и стоком, являются пассивными, поэтому их величину сводят к минимуму. Падениями напряжения на этих участках обычно пренебрегают, а следовательно,   и

      ,  (1.3.)

Для увеличения глубины модуляции сопротивления кристалла р-n переход можно делать с двух противоположных сторон (рис. 1.2,б). В этом случае, при том же, изменении изменение ширины канала удваивается.

    1. Основные характеристики
 

  Главной характеристикой полевого транзистора  является зависимость тока стока от напряжения на затворе : .

  

   (1.4.)

   , где  - минимальное сопротивление канала при =0, а – толщина канала, b – площадь.

    - напряжение отсечки, т.е. напряжение при котором области объемного заряда смыкаются, т.е. h=0.

  Для транзистора с двусторонним переходом:

  

   (1.5.)

  Для транзистора с односторонним  переходом:

  

  (1.6.)

  Формула (1.4.) применима при h>0 (канал перекрыт), т.е. и канал не перекрыт. Его перекрытие происходит в самом верхнем сечении, где выполняется условие:

  

  (1.7.)

  Перекрытие канала может произойти из-за увеличения либо . Возможность перекрытия канала и отсечки тока до нуля за счет увеличения до очевидно.

  Рассмотрим  возможность отсечки тока за счет увеличения . Для простоты положим , т.е. затвор короткозамкнут. В этом случае увеличение приводит к росту . Рост тока через канал приводит к увеличению запирающего напряжения (Uзап) на p-n-переходе и к уменьшению сечения канала, т. е. к уменьшению тока. Таким образом, увеличение создает условия, приводящие к его же уменьшению, т. е. наступает самоограничение тока, но так как уменьшение сечения канала при этом порождается самим ростом тока и если →0, то Uзап→0 и канал снова открывается. В результате происходит отсечка приращения тока. Это значит, что с увеличением  происходит насыщение тока , которое возникает при .

  

  (1.8.)

  

  Рис. 1.3. Выходные характеристики полевого транзистора 

  (когда  на затворе ничего нет)

  Из рис. 1.3. при малых зависимость почти линейна. Если на затвор подается , то насыщение наступает при . В формулы (1.4.) и (1.8.) входит по модулю.

  Выходной  ВАХ является область насыщения  тока, так как в этой области ток не зависит от  , а зависит от входного напряжения .

  Усилительное  свойство транзистора характеризуется  крутизной характеристики (g):

  

   (1.9.)

  Знак  минус появляется за счет того что  увеличение соответствует уменьшению .

  В области насыщения крутизна характеристики имеет вид:

  

  (1.10.)

  Из (1.10.) следует, что gбудет максимальна при малых  .

  Однако  такой режим невыгоден, так как  через полевой транзистор протекает  большой ток и рассеивается большая  мощность. Поэтому выбирают .  
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 

РАЗДЕЛ 2

РАСЧЕТНАЯ ЧАСТЬ

    1. Расчет зависимости зарядной емкости кремниевого p-n перехода от приложенного напряжения
 

      Исходные  данные:

      Nd1=1·1016 см-3=1·1022 м-3;

        Na1=1·1018 см-3=1·1024 м-3;

      Nd2=8·1017 см-3=8·1023м-3;

      Na2=5·1018 см-3=5·1024м-3;

      S=1см2=1·10-4м2;

      Напряжение  при прямом смещении, U(B)=0; 0,4; 0,8; 0,9;

      Напряжение  при обратном смещении, U(B)=0,4; 0,8; 1,5; 3,5; 7; 14;

    Дополнительные  данные:

  • постоянная Больцмана, k = 1,38·10-23Дж/К;
  • постоянная планка, h = 6,62·10-34Дж/сек;
  • масса электрона, m0 = 9,1·10-31кг;
  • заряд электрона, q = 1,6·10-19Кл;
  • ширина запрещённой зоны в кремнии, Eg = 1,12еВ=1,792·10-19Дж;
  • температура образца, Т = 300К.
  • относительная диэлектрическая проницаемость,ε (Si)=11,7
  • диэлектрическая проницаемость вакуума, ε0= 8,86·10-12Ф/м
  1. Представим формулу для расчёта потенциала  p-n-перехода φk: 

    

    где ni2 – концентрация носителей зарядов в собственном полупроводнике. Ее можно рассчитать по следующей формуле: 

    ni2 = 4·(2πkT/h2)·(mn* · mp*)3/2 ·exp(-Eg/(kT)),

    где mn* и mp* - эффективные массы электронов и дырок соответственно. Массы для кремния находятся по следующим соотношениям: 

    mn* =0,26·m0=0,26·9,1·10-31=2,37·10-31[кг]

    mp* = 0,52·m0=4,7·9,1·10-31=4,7·10-31[кг] 

    Так как ni2 величина постоянная для данного полупроводника, произведем ее расчет, определив размерность:  

    ni2=

 

    ni2 = 4·(2·3,14·1,38·10-23·300/(6,62·10-34)2)·(0,26·0,52·(9,1·10-31))3/2·exp(-1,12·1,6·10-19/(1,38·10-23 ·300)) = 5·1030-6] 

2) Найдем значение для двух несимметричных p-n переходов, определив размерность:

=
.
 

[B] 

[B]

    3) Вычислим значение зарядной емкости Сз для первого несимметричного p-n перехода при прямом смещении, для начала определим размерность: 

 

;

[Ф];

[Ф];

[Ф];

[Ф];

При обратном смещении:

4) Вычислим значение зарядной емкости Сз для второго несимметричного p-n перехода при прямом смещении, для начала определяем размерность: 

 

; 

[Ф];

[Ф];

[Ф];

[Ф];

При обратном смещении:

[Ф];

[Ф];

[Ф];

[Ф];

[Ф];

[Ф];

5) Используя полученные данные, строим график зависимости С3=f(U): 
 

 
 
 
 
 
 
 
 

2.2. Расчет крутизны выходной ВАХ полевого транзистора 

      Исходные  данные:

    Минимальное  сопротивление канала (при U3=0) RK0=10 Oм

    Напряжение  отсечки  UЗ0=9 В

    Напряжение  на затворе UЗ, (В): 0; 1; 3; 5; 7;

    Напряжение  стока  UС, (В): 0,5; 1; 2; 4; 6; 8; 10; 12;

      Найдем  значение Ic-тока через канал по формуле, определив размерность:

1/Ом∙[В+((В-В+В)/В)]=В/Ом =А(Ампер)

  (1)

При U3+Uc≥U30, для нахождения Ic, используем формулу Iнас:

    (2)

Находим Ic:

При U3=0:

[A]

[A]

[A]

[A]

[A]

[A]

[A]

[A]

При U3=1:

[A]

[A]

[A]

[A]

[A]

[A]

[A]

[A]

При U3=3:

[A]

[A]

[A]

[A]

[A]

[A]

[A]

[A]

При U3=5:

[A]

[A]

[A]

[A]

[A]

[A]

[A]

[A]

Информация о работе Расчет зарядной емкости P-N-перехода и характеристик полевого транзистора